LRC｜為實驗室與研發單位量身打造的多元製程捲對捲鍍膜平台

為實驗室與研發單位量身打造的捲對捲鍍膜平台

捲對捲（Roll-to-Roll, R2R）真空鍍膜技術已廣泛應用於透明導電膜、銅箔基板、紡織裝飾、衛星天線、機能性薄膜等多元領域。然而，從新材料研發、製程開發、到客戶打樣驗證，研究單位與企業 R&D 中心常面臨一個關鍵難題 —— 量產級設備的試樣成本過高、靈活性不足，難以滿足實驗室探索性研究的需求。

大永真空 LRC 實驗用捲對捲鍍膜機（Lab R2R Coater）是專為實驗室、學研單位、企業研發中心量身打造的小幅寬捲對捲鍍膜平台。LRC 採用 500 mm 標準幅寬、短捲基材設計、多元製程切換能力，並可選配 DC、MF（中頻）、HiPIMS（高功率脈衝）三種電源系統，讓使用者能在單一設備上完成從基礎研究、製程開發、到打樣驗證的完整 R&D 流程，大幅降低實驗成本與時間。

500 mm幅寬 + 短捲設計｜降低試樣成本、提升 R&D 效率

實驗室研發最重要的兩個資源是「材料」與「時間」 —— 使用大幅寬量產機進行小批量試樣，不僅基材浪費嚴重，單次製程時間也不適合快速迭代的研究節奏。LRC 採用 500 mm 標準幅寬與 10~50 米短捲設計，單次試樣的基材消耗量大幅降低，讓研究人員可以快速進行多批次試樣比對、製程參數最佳化、與材料配方驗證。

LRC 的緊湊設計同時降低了設備佔地空間需求，適合實驗室、研究室等空間有限的環境設置。對於預算有限但需要完整捲對捲製程能力的學研單位，LRC 提供業界少見的「實驗室友善」捲對捲設備方案。

DC / MF / HiPIMS 三種電源可選｜完整覆蓋 R&D 製程需求

不同的鍍膜應用需要不同的電源特性 —— DC 電源適合金屬導電膜的高速沉積、MF 中頻電源適合氧化物介電膜的反應性濺鍍、HiPIMS 高功率脈衝電源則提供高離子化率以實現高緻密、高附著力的特殊功能膜。LRC 在同一設備上提供這三種電源選配，讓使用者可以在同一機台上完成各種不同類型的薄膜研究。

此一多元電源設計，使 LRC 成為材料研究、製程開發、技術評估的最佳通用平台。研究人員無需為了不同膜系的研究分別添購多台設備，大幅降低實驗室的設備投資成本，同時加速跨領域的整合性研究。

3 組靶座｜平面與旋轉靶彈性配置

LRC 配備 3 組靶座，可彈性配置平面靶與旋轉靶。平面靶適合單一材料的精準沉積與膜厚控制；旋轉靶則提供長壽命與均勻性優勢，適合長時間連續濺鍍。多靶座設計支援多層膜結構研究、合金共濺鍍、反應性濺鍍等多樣化的實驗需求。

配合大永獨家的高精度張力控制系統，LRC 可穩定處理 6~50 μm 的超薄至中厚 film 基材，即使在快速製程切換的研究情境下，仍能維持基材走帶穩定與膜厚均勻性。從基礎研究到打樣驗證，LRC 為使用者提供完整的捲對捲鍍膜實驗能力。