AR/VR Sputter
AVS｜為下一世代沉浸式光學打造的高精密濺鍍解決方案
AR/VR Sputter｜Precision Sputtering for Next-Generation Immersive Optics為 AR／VR／MR 沉浸式裝置打造的次世代光學濺鍍平台
AR／VR／MR 沉浸式裝置已成為元宇宙時代的核心硬體，從消費級 VR 頭顯、AR 智慧眼鏡、到企業級混合實境（MR）設備，光學模組是決定使用者沉浸體驗的關鍵元件。然而，AR／VR 光學設計極為複雜 —— Pancake 鏡片、Waveguide 波導、菲涅爾透鏡、HMD 顯示鏡組 —— 每一種光學元件都對鍍膜的精度、均勻性、與多層膜能力提出極致挑戰。
大永真空 AVS 濺鍍機（AR／VR Sputter）是基於大永自主研發的 ARMS 高精密濺鍍技術平台，專為 AR／VR／MR 高難度光學元件量產所優化的專用設備。AVS 整合分離式活化反應濺鍍架構、3D 凸面光學鍍膜能力、雙組 ICP 高密度電漿源、與多層膜支援，為元宇宙產業提供業界領先的次世代光學鍍膜解決方案。
3D 凸面光學鍍膜｜完美應對 Pancake 與菲涅爾複雜幾何
AR／VR 鏡片的核心挑戰是「非平面複雜幾何」 —— Pancake 鏡片的多層折疊光路、菲涅爾透鏡的同心圓微結構、Waveguide 波導的光柵微結構，每一種設計都對鍍膜的階梯覆蓋（Step Coverage）能力提出極致挑戰。傳統蒸鍍的指向性沉積特性，難以在這類複雜結構表面達到均勻鍍膜。
AVS 結合濺鍍製程本身的高動能與優異階梯覆蓋特性，搭配大永獨家的 3D 曲面治具設計，可在非平面、凸面、甚至微結構基板上，沉積出均勻、穩定且可重複的光學薄膜。即使在 Pancake 鏡片這類具有複雜光路折疊結構的元件上，AVS 仍能維持全面均勻性 ±1% 以內，確保 AR／VR 裝置的視覺品質與量產良率。
多層膜｜高精度應對複雜光路設計
AR／VR 光學模組常需精密的多層膜設計 —— 半穿透半反射膜（Beam Splitter）、特定波長的二向色鏡（Dichroic Mirror）、極化分光膜（Polarization Beam Splitter）、抗反射 + 防眩光複合膜 —— 每一種膜系都涉及數十層甚至上百層的精密堆疊。
AVS 採用大永獨家的分離式活化反應濺鍍架構，可實現金屬層與氧化層的快速交替堆疊，完成 100+多層膜結構。單層膜厚精度可達 ±0.5nm，中心波長偏差控制在 ±0.5% 以內，完全滿足 AR/VR 沉浸式光學對「色彩準確、視覺清晰、光路精準」的核心需求。
雙 ICP 高密度電漿｜為光學沉浸體驗確保極致膜質
AR／VR 裝置的鏡片直接貼近使用者眼睛，任何鍍膜上的微小瑕疵或膜質不均都會被使用者立即察覺，直接影響沉浸體驗。AVS 標配兩組大永自製 ICP 感應耦合電漿源，提供業界領先的氣體解離與反應效率，確保多層膜的折射率精準與光譜表現的長期穩定。
分離式活化反應架構則有效抑制傳統反應性濺鍍的靶毒化問題，確保長製程下的鍍率穩定與膜質一致。對於 AR／VR 這類「使用者體驗為王」的高階光學應用，AVS 提供業界唯一兼具「3D 曲面能力 + 多層膜精度 + 高膜質緻密度」的完整解決方案。
規格表Specifications
| Model | AVS-1650 |
|---|---|
| 產品線 | 高精密光學濺鍍鍍膜設備 - AR／VR 濺鍍機 |
| 腔體規格 | Ø1650 mm 製程腔體｜1650 平台 |
| 基板材質 | 高折射率玻璃（Schott、Hoya 系列）、樹脂光學基板、特殊光學鏡片 |
| 鍍膜技術 | 分離式活化反應磁控濺鍍（ARMS-based）｜金屬區與反應區分離，突破靶毒化問題 |
| 濺鍍系統 | 4 組濺鍍系統｜高鍍率 + 多元膜系彈性配置 |
| 電漿源 | 2 組大永自製 ICP 感應耦合電漿源｜高效雙電漿提升膜質 |
| 治具設計 | 公轉式 3D 曲面治具｜專為 Pancake 鏡片、Waveguide 等非平面元件優化 |
| 膜層數能力 | 100+多層膜｜對應複雜光學設計 |
| 膜厚精度 | ± 0.5 nm（單層膜）｜± 0.5% 中心波長精度（多層膜） |
| 膜厚均勻性 | ± 1% 以內（全載點，含 3D 曲面） |
| 可成膜材料 | 高／低折射率配對膜系（Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、SiO₂）、高反射金屬（Ag、Al）、特殊光學鍍材 |
| 極限真空 | LL Chamber ≦ 8 × 10⁻³ Torr｜PR Chamber ≦ 5 × 10⁻⁶ Torr |
| 操作模式 | IPC 全自動 / 手動模式｜長製程連續運行設計 |
| 選配模組 | 客製治具 / 進階電漿源 |
※ 上述為標準配置，實際規格可依客戶應用需求客製化調整。
013D 凸面光學鍍膜能力
- 高動能濺鍍：濺鍍粒子的高動能與優異階梯覆蓋，適合 Pancake、Waveguide 等複雜結構鍍膜。
- 3D 曲面治具：公轉式 3D 治具專為非平面光學元件設計，確保複雜幾何結構的均勻鍍膜。
- 全面均勻 ±1%：即使在 3D 凸面結構上，全載點膜厚均勻性仍可控制在 ±1% 以內。
02多層膜支援
- 100+ 層堆疊：可完成 100 層以上多層膜結構，滿足 AR／VR 複雜光學設計需求。
- 高精度控制：單層膜厚 ±0.5nm 精度，中心波長 ±0.5% 偏差，確保光路精準。
- 彈性膜系：支援 Beam Splitter、Dichroic、PBS 等各類複雜光學膜系。
03雙 ICP 高密度電漿源
- 雙電漿配置：兩組 ICP 確保大基板上的反應均勻性，提升膜質一致性。
- 高解離效率：大永自製 ICP 提供業界領先的氣體解離與反應效率。
- 膜質緻密化：高活化反應確保多層膜結構緻密、折射率精準、光譜長期穩定。
04分離式活化反應濺鍍架構
- 靶毒化解決：金屬濺鍍區與反應性電漿區分離，從根本解決靶毒化問題。
- 長期穩定：高速旋轉腔體確保長製程下的鍍率穩定與膜質一致。
- 高鍍率產能：兼顧高鍍率與長時間穩定運行，適合 AR／VR 量產需求。
05低微粒製程設計
- 低微粒架構：分離式架構與優化流場設計，有效抑制製程微粒生成。
- 高潔淨度：確保 AR／VR 鏡片表面潔淨度，避免影響使用者視覺體驗。
- 高良率量產：穩定的微粒水準確保大規模量產的批次間良率一致性。
AVS 結合 3D 凸面光學鍍膜、多層膜與雙 ICP 高密度電漿源，為各類 AR／VR／MR 沉浸式裝置的光學模組提供業界領先的高精密濺鍍解決方案，廣泛應用於消費級 VR、企業 MR、AR 智慧眼鏡等元宇宙核心硬體。
01VR 頭戴裝置 VR Head-Mounted Displays
VR 頭顯是當今元宇宙產業最重要的消費級裝置，Pancake 鏡片設計已成為新世代 VR 的主流光學方案，可大幅縮小裝置厚度並提升視覺品質。AVS 的 3D 凸面鍍膜能力與多層膜精度，完美支援 Pancake 鏡片的精密光學需求。
02AR 智慧眼鏡 AR Smart Glasses
AR 智慧眼鏡是元宇宙時代的下一代運算平台，Waveguide 波導技術已成為主流光學方案。AVS 的多層膜能力與高精度膜厚控制，可完整支援 Waveguide 光學元件的精密膜系需求。
03MR 混合實境裝置 Mixed Reality Devices
MR 混合實境裝置結合 VR 與 AR 的優勢，需要同時處理虛擬影像顯示與真實世界視覺，光學系統極為複雜。AVS 的高精度多層膜能力與 3D 曲面鍍膜，可支援 MR 裝置複雜光學模組的量產需求。
04光學模組與光路元件 Optical Modules & Components
AR／VR 系統依賴各種光學模組元件 —— 菲涅爾透鏡、自由曲面鏡、衍射光柵元件 —— 每種元件都需要特殊的鍍膜支援。AVS 的多元膜系能力可為 AR／VR 供應鏈廠商提供完整鍍膜方案。
05下一世代顯示與感測 Next-Gen Display & Sensing
元宇宙生態系不斷擴展，新興的眼動追蹤（Eye Tracking）、空間運算感測、全像顯示等次世代技術，對光學鍍膜提出新的挑戰。AVS 的彈性製程與高精度能力，可為 AR／VR 創新應用提供關鍵製程支援。
