【什麼是高功率脈衝磁控濺鍍？】

• 高功率脈衝磁控濺鍍原理

HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種先進的物理氣相沉積技術。HiPIMS透過高功率脈衝產生器以數十微秒的低占空比（<10%）的瞬間輸出產生瞬間高電流，由此產生kW/cm²等級的高功率密度。這種高能量脈衝激發可顯著提高濺射過程中的電離化產率，使得沉積過程中的原子被高度離子化，並且在基板上形成非常緻密結構的塗層。這項技術能有效改善塗層的物理性能，如奈米晶體結構、高塗層緻密性、高硬度、優良耐磨性以及極低的表面粗糙度，進一步擴展了HiPIMS在高端應用中的使用潛力。

• 高功率脈衝磁控濺鍍特色

• 高塗層緻密性：能有效形成奈米晶或非晶結構，提升塗層的緻密性與結構均勻性。
• 極低表面粗糙度：可生成光滑平整的塗層表面，有助於改善表面性能並降低摩擦與磨耗。
• 良好的基材相容性：具備高度製程彈性，僅需微調參數與設備配置，即可應用於塑膠、陶瓷等多樣性基材。
• 多元化塗層材料選擇：可沉積含四元以上元素的複雜塗層，並支援各類特殊元素（如：鎢、鉭等）的應用，滿足先進材料設計需求。