大永真空擁有經驗豐富的自主研發團隊，同時緊密結合學研單位，透過技術交流合作，持續開發創新技術，成為先進薄膜製程領航者。從 PVD蒸鍍 (Evaporation) 與 PECVD重合膜技術，到現今國內獨有的高功率脈衝磁控濺鍍（HiPIMS）與電感耦合電漿源輔助反應性濺鍍技術及對應之設備研發製造、類鑽碳塗層 (Diamond-like Carbon，DLC) 的製程上亦一再突破，除了 DLC a-C:H 塗層，也具備 DLC ta-C 塗層。不斷勇於前進只為帶領客戶成為產業先驅者！