【什麼是陰極電弧沉積？】

• 陰極電弧沉積原理

陰極電弧沉積（Cathodic Arc Deposition）的原理是：在靶材表面施加瞬間高電壓，並透過引弧機構輕觸靶材產生瞬間短路（arcing）以引發電流，再藉由磁場控制電弧的運行軌跡；根據製程需求，可通入反應性氣體以形成所需塗層。

• 陰極電弧沉積特色

• 在金屬基材上具有良好的附著力：金屬離子動能高，可深入表層，塗層與基材結合力較強。
• 塗層緻密性高：結構緻密，適用於嚴苛環境。
• 離子化率高：電漿幾乎都是金屬離子，沉積速度較快。
• 可做多元化合物塗層：TiAlN、TiCN、AlTiSiN等。