EWS｜為運動眼鏡量身打造的高精密濺鍍解決方案

為運動眼鏡與視光鏡片打造的高精密濺鍍平台

運動眼鏡（滑雪鏡、自行車鏡、太陽眼鏡）與視光處方鏡片是現代消費市場成長最快的光學產品類別之一。這類鏡片普遍採用 PC、CR-39、Trivex 等樹脂基材以追求輕量化與安全性，但同時也對鍍膜製程提出獨特挑戰：基板溫度敏感、鏡片立體曲面複雜、終端使用環境嚴苛（高溫、紫外線、汗水、油污），且消費者對視覺品質與耐用性的期待日益提高。

大永真空 EWS 運動眼鏡濺鍍機（Eyewear Sputter）是基於大永自主研發的 ARMS 高精密濺鍍技術平台，針對運動眼鏡與視光產業所優化的專用設備。EWS 整合了分離式活化反應濺鍍架構、低溫濺鍍能力、公自轉曲面治具設計、以及標配的抗指紋(AF)模組，實現「彩色鍍膜 + 抗反射 + 抗指紋」一機完成的整合製程，為運動眼鏡品牌與視光鏡片廠提供穩定可靠的量產級鍍膜解決方案。

分離式活化反應濺鍍｜塑膠基材也能達到高緻密膜質

傳統反應性濺鍍的「靶毒化（Target Poisoning）」問題，是長期困擾產業的技術挑戰 —— 金屬靶材表面被反應氣體氧化後，鍍率大幅下降、輝光放電不均勻、膜質劣化。EWS 採用大永自主研發的分離式活化反應濺鍍（Activated Reactive Magnetron Sputtering）架構，將金屬濺鍍區與反應性電漿區有效隔離，從根本解決靶毒化問題。

透過腔體高速旋轉設計，基板在金屬區與反應區之間高速往返，實現金屬層與氧化層的快速交替堆疊。即使在低溫製程條件下，EWS 仍能在塑膠／PC 基材上沉積出高緻密、高附著力的光學薄膜，通過鏡片產業最嚴苛的耐磨、防霧、抗刮等可靠度測試，大幅優於傳統蒸鍍鏡片的耐用表現。

低溫製程 + ICP 電漿源｜完美保護溫度敏感鏡片基材

CR-39、Trivex 等視光樹脂基材的玻璃轉化溫度（Tg）落在 80~100°C 區間，任何高溫製程都會導致基材變形或光學特性劣化。EWS 將腔體製程溫度控制在 80°C 以下，搭配大永自製的 ICP 感應耦合電漿源，在低溫條件下仍能達成優異的氣體解離與反應效率，確保膜層緻密性與光學特性穩定一致。

低溫 + ICP 的組合，使 EWS 能在不破壞鏡片基材的前提下，沉積出與高溫製程相當品質的光學薄膜。對於需要保持優異光學折射率、雙折射性能、表面平整度的高階視光與運動眼鏡應用，EWS 提供業界領先的解決方案。

公自轉曲面治具 + AF 模組｜一機完成立體鏡片完整製程

運動眼鏡與處方鏡片普遍為立體曲面結構（球面、非球面、漸進多焦點），傳統平面治具難以確保曲面鍍膜的均勻性。EWS 採用公自轉行星式治具設計，搭配大永獨家的鏡片曲率優化演算法與客製化夾持結構，可確保各種曲率鏡片在批量量產時的鍍膜均勻性控制在 ±3.0% 以內。

EWS 標配抗指紋（AF）模組，可在同一腔體內完成「彩色鍍膜／抗反射 → AF 抗指紋」的整合製程。基板無需在不同設備間轉移，大幅縮短製程週期、降低污染風險、提升產品良率，是運動眼鏡品牌與視光鏡片廠最具競爭力的設備選擇。