電漿是人類近代科學的重大發現之一，也因電漿的發現，造就許多新興科技的蓬勃的發展。電漿技術應用非常廣泛，其中以鍍膜科技應用最為顯著，近幾年有許多真空鍍膜技術陸續被發展出來，並廣泛應用於半導體、機械、生醫科技等等產業上，而電漿正是鍍膜技術的核心所在。藉由導入先進智慧電漿光譜控制技術、電漿量產設備開發及高密度電漿鍍膜製程，以開發具有智慧監控之高密度電漿鍍膜量產設備，突破以往單純材料科技之研發預料系統的開發，利於實驗及製程上有極大的輔助功能。

電漿監控PEM(Plasma Emission Monitor)是在實驗及製程測試數據進行電漿參數資訊模型建立，可即時監測電漿密度、電子溫度、離子通量與物種濃度等重要電漿參數。並結合鍍膜設備的硬體設計，如幫浦種類、規格、抽氣位置與供氣的氣導設計及其他製程條件要求等等，來輔助改善鍍膜在待鍍物的面積分布上的均勻性及均質性。使每個鍍膜控制區域內的成膜品質有最佳化的表現。

【產業應用】電漿設備(清潔、沉積、蝕刻)等。

【解決方案】捲繞式真空鍍膜硬體設計加上電漿監控系統輔助，使得待鍍物上有均勻及均質性的鍍膜，可根據您的具體需求客製化來定製。

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