【新設備發表】二階段式反應濺鍍鍍膜機

大永真空自主開發,將濺鍍製程之特性導入光學領域:

  • 可有效改善反應性濺鍍製程因靶毒化而造成的低鍍率及靶面放電破壞膜質。
  • 製程具有高穩定性,並仍保有濺鍍製程之高薄膜品質與大面積高均勻性等優勢。
  • 克服非平面的基材限制,讓具有「曲面的基材」也可製備出均勻的光學薄膜,極適合運用於自駕車產業之車載鏡頭。
  • 應用範圍包括Anti-reflection coatings(抗反射膜), Edge filters(截止濾光片), Minus filters(衰減濾光片), Beam splitter filters(分光濾光片), Decorative film(裝飾膜), Reflector(反射鏡)

大永真空將此濺鍍製程導入光學鍍膜設備,一方面引進濺鍍的優點,並有效改善反應性濺鍍的缺點,進一步賦予設備「高鍍率」、「高膜質」、「高穩定性」的性能,歡迎與我們聯繫瞭解更多!


2021-03-23