延續在光學蒸鍍領域的深厚工程基礎，大永真空研發團隊自主研發推出 ARMS（Activated Reactive Magnetron Sputtering）高精密光學濺鍍鍍膜設備，將磁控濺鍍技術成功導入高階光學薄膜製程，專為高膜質、高穩定性與高一致性的光學應用所打造。

ARMS 採用創新的腔體高速旋轉結構，將金屬濺鍍區與反應性電漿區有效分離，使基板在製程中高速往返於兩區之間，實現金屬層與氧化層的快速交替堆疊。

此設計成功突破傳統反應性濺鍍常見的靶毒化問題，避免因鍍率下降與不均勻輝光放電所導致的膜質劣化，確保設備能長時間穩定運行，同時兼顧高鍍率與高膜層品質。

• 低溫濺鍍能力 - 適用於溫度敏感型基材，滿足高階光學與先進感測元件需求。

• 高效率 ICP 感應耦合電漿源 - 提升反應性氣體的解離與活化效率，確保膜層緻密、光學特性穩定。

ARMS 的分離式靶材區與耦合電漿區設計，可分別導入惰性氣體與活化後的反應性氣體，大幅降低靶材受反應氣體干擾的風險，提升整體濺鍍穩定性與大面積均勻性。

結合濺鍍製程本身的高動能與優異階梯覆蓋能力，ARMS 能在非平面與 3D 曲面基材上，依然沉積出均勻、穩定且可重複的光學膜層。

ARMS 特別適用於高幾何精度要求的光學應用，包括：

• 車載鏡頭與自駕車用 IR Cut Filter
• AR／VR／MR 裝置之 3D 凸面光學元件
• 高一致性、多層結構的先進光學濾光片

ARMS 將濺鍍製程的高緻密特性導入光學鍍膜，可設計超過 50 層以上的 Super Lattice 多層膜結構。

腔體支援多點靶位配置，靈活相容單靶或雙靶設計，並可預先混合製程氣體以提升解離活化率，進一步改善反應性濺鍍限制，全面實現：高鍍率+高膜質+高穩定性。

• 特點
• 分離式活化反應濺鍍
• 金屬濺鍍區與反應性電漿區有效隔離，從根本解決靶毒化（Target Poisoning）問題。
• 高速旋轉腔體設計
• 基板於兩區間高速往返，實現金屬／氧化層快速交替堆疊，兼顧高鍍率與長時間穩定運行。

• 三大製程優勢
• 低溫濺鍍

友善溫度敏感基材，適用於先進感測元件與高階光學材料。

• 高效 ICP 感應耦合電漿

提升氣體解離與反應效率，確保膜層緻密、光學特性穩定一致。

• 低微粒製程

有效抑制微粒生成，提升薄膜潔淨度與大面積均勻性。

• 卓越膜層掌控力
• 3D 曲面均勻鍍膜能力
• 高動能濺鍍與優異階梯覆蓋（Step Coverage），曲面基材同樣維持高一致性。
• 超過 50 層多層堆疊
• 支援 Super Lattice 超晶格結構，滿足高階光學設計需求。
• 高度彈性配置
• 多點靶位（單靶／雙靶）設計，製程氣體可彈性混合與活化調整。

• 產業應用

大永真空研發之 ARMS (Activated Reactive Magnetron Sputtering) 設備，專為對「精度、穩定性、一致性」有極致要求的高階光學膜層而生。憑藉其獨特的分離式活化反應設計與低溫製程優勢，ARMS 已成功導入以下關鍵產業領域：

• 3D 感應與識別： 手機 Face ID 散斑投射器、LiDAR 接收端窄頻濾光片。
• 隱藏式感測器： 應用於螢幕下環境光感測器 (ALS) 的高穿透光學感應薄膜。
• 高硬度防護： 藍寶石玻璃鏡頭保護貼之高硬度增透膜 (AR) 或特殊增色膜。

• 自動駕駛核心： 高一致性的 LiDAR 窄頻帶通濾光片，有效過濾環境雜訊。
• 視覺成像系統： 車載鏡頭組件、自駕車專用 IR Cut Filter (紅外線濾光片)。
• 資訊顯示技術： 抬頭顯示器 (HUD) 擋風玻璃或反射鏡上的精密多層組合膜。
• 駕駛監控： DMS 疲勞偵測系統所需的紅外線專用光學元件。

• 3D 凸面光學元件： AR/VR/MR 裝置中高難度的非平面鏡片鍍膜。
• 高精密濾光片： 具備多層結構且需高度一致性的先進光學濾鏡，優化視覺沉浸感。

• 晶圓級封裝： 在 CMOS 影像感測器 (CIS) 晶圓上直接進行精密光學鍍膜。
• 微機電系統 (MEMS)： 針對微型投影、掃描鏡頭所需的特殊高反射鍍膜。

• 醫療診斷： PCR 檢測設備、生化分析儀內部的精密分光元件。
• 專業顯微技術： 具備極高截止深度與高穿透率的螢光顯微鏡濾片。
• 環境監控： 針對水質或氣體特定波長進行偵測的窄頻感測濾片。

• 雷射通訊： 低軌衛星間傳輸所需的高耐候性、高反射鏡與濾光片。
• 防護塗層： 針對太空極端輻射與溫差環境運行的光學組件提供保護。

• 為什麼選擇 ARMS？

• 高鍍率與高膜質： 解決靶毒化問題，兼顧生產效率與膜層緻密性。
• 曲面掌控力： 優異的階梯覆蓋能力，平面到 3D 曲面皆能完美均勻。
• 極低微粒生成： 確保每一片光學元件都擁有最高等級的潔淨度。