• 連續式真空鍍膜 R2R 技術應用於多種技術整合

真空 R2R 鍍膜技術（Roll-to-Roll Vacuum Coating）是一種適用於柔性基材的高效連續鍍膜工藝，能在高真空環境下將功能性薄膜沉積於各類捲對捲材料上，如塑膠膜、金屬箔、纖維織物等。該技術不僅具備高速加工能力，還能確保鍍層的均勻性與高緻密性，使其在光學、電子與裝飾應用領域具備極高競爭力。此外，R2R 鍍膜可與多種技術整合，如磁控濺射、電漿清潔系統、PECVD 等，進一步提升薄膜的機能性與附著力。

• 提供高附著力、高純度且低缺陷的膜層結構

大永真空深耕 R2R 鍍膜設備研發，專注於提高鍍膜效率與膜層品質。核心技術包括高精度張力控制系統及鍍膜源系統，確保在不同基材上實現穩定、高效的沉積過程。透過精準的氣體流量控制與電漿輔助技術 等，我們的 R2R 設備能夠提供高附著力、高純度且低缺陷的膜層結構，適用於光電產業、太陽能及新能源等先進應用。

• DMRC滿足輕薄、耐用、高機能性膜層需求

DMRC 捲繞式磁控濺鍍機設備可廣泛應用於多種產業領域，包括顯示技術（OLED、MicroLED）、柔性電子（FPC、觸控感測）、新能源（太陽能薄膜、電池隔離膜）等。我們的設備支援多種材料基板，如 PEN、PET、PI 及金屬箔材，滿足高端市場對輕薄、耐用、高機能性膜層的需求。隨著 5G、新能源汽車與可穿戴設備市場的崛起，R2R 鍍膜技術將成為未來材料製程的重要推動力，助力客戶提升產品附加價值與市場競爭力。

• 同一製程中完成有機與無機膜層，無須溶劑，環保無汙染
• 製程超越傳統大氣塗佈無法實現之功效
• 膜厚均勻可控制，實現超薄膜層
• 膜層高純度低殘雜，表面平滑低針孔
• 表面性能改質(防刮、高透光、親/殊水等)
• 同時配備平面、旋轉靶座，靶材型式可選擇
• 允許多個鍍膜源(金屬、合金、介電材料)同時鍍膜
• 分離式腔體可進行不同壓力之各式濺鍍或PECVD等鍍膜方式

RFID、5G 裝置、印刷電路板（PCB）、電動車電子元件、觸控螢幕、車載顯示器、電子紙、偏光片、智慧玻璃、ITO 薄膜、軟性太陽能電池、鈣鈦礦太陽能電池、水氧阻隔膜及生物試劑等。