• 高效率連續式 R2R 真空鍍膜系統

大永真空 R2R（Roll-to-Roll）真空鍍膜系統，專為柔性基材的高效率連續製程而設計，適用於塑膠薄膜、金屬箔材、紡織品與鞋材面料等各類捲對捲基材。設備可整合磁控濺射、電漿清潔、PECVD 及高能電漿輔助製程，兼具高速量產能力與優異膜層一致性，廣泛應用於光電、柔性電子、新能源與機能性紡織產業。

• 2000 mm 大幅寬鍍膜與高均勻度製程控制

大永真空DMRC 系列具備高達 2000 mm 的大幅寬捲繞鍍膜能力，並導入德國先進電漿監控技術，可即時掌握電漿狀態，使 2000 mm 全幅範圍內的鍍膜均勻度穩定控制於 ±5% 以下，有效確保量產品質一致性，解決傳統大幅寬 R2R 製程中常見的邊緣效應與批次差異問題。

• 高精度張力控制與多元柔性基材適應能力

在製程穩定度方面，大永真空的高精度張力控制系統可對應6 μm 至 50 μm 的超薄至中厚 film 基材，即使在高速運轉與大幅寬條件下，仍能維持穩定走帶與精準沉積，並可延伸應用於結構較為複雜的紡織品與鞋材面料，滿足多樣化柔性材料對製程控制的嚴苛需求。

• HiPIMS 高附著力鍍膜技術，對應高階功能性應用

針對高附著力、高可靠度與高界面品質的特殊應用需求，系統可選配高功率 HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）電源技術。透過高離子化率金屬電漿，可顯著提升膜層緻密度、附著力與耐久性，特別適用於高應力、耐磨耗或需承受後段加工的功能性薄膜應用。

• 建立高階材料量產的長期競爭優勢

隨著 5G、新能源車、可穿戴裝置與機能性紡織市場持續成長，大永真空以 2000 mm 大幅寬平台 × 德國電漿即時監控 × HiPIMS 高階濺鍍技術 × 超薄膜張力控制能力，為客戶打造具備長期量產穩定性、製程升級彈性與市場競爭力的 R2R 真空鍍膜製造平台。

• 同一製程中完成有機與無機膜層，無須溶劑，環保無汙染
• 製程超越傳統大氣塗佈無法實現之功效
• 膜厚均勻可控制，實現超薄膜層
• 膜層高純度低殘雜，表面平滑低針孔
• 表面性能改質(防刮、高透光、親/殊水等)
• 同時配備平面、旋轉靶座，靶材型式可選擇
• 允許多個鍍膜源(金屬、合金、介電材料)同時鍍膜
• 分離式腔體可進行不同壓力之各式濺鍍或PECVD等鍍膜方式

RFID、5G 裝置、印刷電路板（PCB）、電動車電子元件、觸控螢幕、車載顯示器、電子紙、偏光片、智慧玻璃、ITO 薄膜、軟性太陽能電池、鈣鈦礦太陽能電池、水氧阻隔膜及生物試劑等。