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離子輔助光學鍍膜設備

型號 : DMC

DYPS|穩定量產導向的光學濺鍍鍍膜設備

DMC|高效量產導向的電子束蒸鍍光學設備

  • 為精密光學鍍膜製程打造的經典解決方案

在光學鍍膜領域中,電子束蒸鍍(E-beam Evaporation)始終是實現高沉積速率與多樣化膜系設計的基石。然而,面對現代光學應用對良率、產能效率以及膜厚精準度的嚴苛要求,設備的穩定性與技術整合能力成為決勝關鍵。

大永真空結合數十年累積的實務經驗與深厚的技術研發能量,打造 DMC 電子束蒸鍍光學設備(Dah Young Multi-Functional Coater)。這不僅是一台真空設備,更是整合了大永自研核心技術的完整工藝平台,專為涵蓋裝飾、光電至高精密光學的廣泛應用所設計,提供高效、穩定且具備高度自主性的真空蒸鍍解決方案。

  • 穩定蒸鍍架構,確保薄膜沉積品質一致性

DMC 採用優化的高能電子束蒸鍍結構設計,透過精準的束流控制與坩堝配置,使鍍材能迅速達到理想蒸發溫度,實現快速且均勻的鍍膜效果。 

此設計不僅大幅提升沉積效率,更能確保大面積鍍膜時的厚度均勻性與光學性能在不同批次間保持一致,特別適合對產能有高度要求的連續生產應用。

結合先進的真空抽氣系統與腔體流場設計,DMC 能在製程中維持穩定的高真空環境,有效減少背景氣體干擾,確保光學膜層具備優異的純度與附著力。

  • 模組化腔體配置,適應多元產能與製程需求

DMC 系列具備高度的模組化設計彈性,依據不同的產能規劃與廠房空間,提供業界最完整的標準化腔體尺寸選擇(800、1100、1350、1550、1800、2050)。

無論是針對小批量多樣化的研發需求,還是對應大尺寸基板或大規模量產的系統配置,DMC 皆能透過靈活的尺寸選擇,協助客戶在不同發展階段實現最佳的設備投資效益與產能擴充規劃。

透過模組化設計理念,DYPS 可依實際應用需求選配加熱系統、離子輔助模組與製程監控元件,進一步提升膜層品質、製程彈性與整體設備適應性。

  • 自主研發關鍵核心,精準掌握複雜多層膜製程

為滿足精密光學鍍膜對「製程可控性」與「光譜準確度」的極致要求,DMC 設備全面導入大永真空自主研發的關鍵輔助系統,實現了軟硬體的高度整合:

  1. 大永自研光學監控系統(Proprietary Optical Monitoring System): DMC 搭載大永自行開發的光學監控技術,針對蒸鍍製程特性進行深度優化。系統能即時且精準地偵測薄膜沉積厚度的光學變化,透過獨家演算法與設備控制端的無縫串聯,實現毫秒級的快速修正。這確保了每一層薄膜厚度皆能精準命中設計值,有效解決長製程中的膜厚漂移問題,大幅提升良率。
  2. 全系列自製高效能離子源(18 / 24 / 27 cm Ion Sources): 針對不同腔體尺寸與製程需求,DMC 配置了大永自主開發的高效能離子源,提供18公分、24公分及27公分等多種規格選擇。
    • 最佳化匹配:自製離子源能與腔體幾何進行最佳匹配,確保離子束流場的均勻覆蓋。
    • 提升膜質:強大的離子輔助沉積(IAD)能力,顯著提升薄膜的緻密性與環境耐受力,使蒸鍍薄膜具備優異的機械強度與環境穩定性,即便是低溫製程也能獲得卓越品質。
此一「核心技術自製」策略,不僅提升了設備的整體性能,更讓大永能為客戶提供更即時、更深入的技術支持與製程優化服務。
  • 為高效生產而生的電子束蒸鍍平台

相較於傳統拼裝式設備,DMC 更著重於系統整合度、製程穩定性與維護便利性。

其設計理念以「從開發到量產的順暢過渡」為核心,協助客戶縮短調機時間、降低製程變異風險,並在實際生產環境中維持高稼動率與優異的良率表現。

DMC 特別適合應用於:

  1. 精密光學鏡頭與濾光片
  2. 各類反射膜與抗反射膜(AR Coating)
  3. 光電感測元件與工業鍍膜
  4. 裝飾性鍍膜與消費性電子外觀件
1. 業界最齊全的量產型腔體尺寸
  • 靈活配置:提供 800、1100、1350、1550、1800、2050 等六種標準化規格。
  • 全方位對應:從小批量的研發試樣,到大尺寸基板或超大規模量產產線,皆有對應機型,滿足不同階段的擴產需求。

2. 深度整合的大永自研光學監控系統 (OMS)
  • 自主技術:搭載大永自行開發的光學監控軟硬體,專為蒸鍍製程優化。
  • 精準控制:具備毫秒級快速修正能力,確保多層膜製程中的每一層厚度精準命中設計值。
  • 提升良率:有效解決長製程中的膜厚漂移問題,大幅提升光譜吻合度與製程良率。

3. 全系列自製高效能離子源 (IAD)
  • 規格齊全:依腔體大小配置大永自製 18cm、24cm、27cm 離子源。
  • 最佳匹配:離子源與腔體幾何完美匹配,確保流場均勻覆蓋。
  • 優異膜質:強大的離子輔助沉積能力,顯著提升薄膜緻密性、機械強度與環境耐受力,低溫製程亦能表現優異。
4. 穩定可靠的電子束蒸鍍架構
  • 高效沉積:優化的高能電子束系統,實現快速且均勻的鍍膜效果。
  • 優異膜質:強大的離子輔助沉積能力,顯著提升薄膜緻密性、機械強度與環境耐受力,低溫製程亦能表現優異。
5. 為量產而生的系統整合
  • 軟硬整合:自主開發的核心關鍵零組件(OMS、離子源)與設備控制系統無縫串聯。
  • 高稼動率:設計著重於操作穩定性與維護便利性,協助客戶縮短學習曲線與調機時間,實現高效穩定的生產產出。

DMC系列憑藉其 800~2050mm 的完整腔體級距,以及高精度光控 (OMS)強力離子源 (IAD)的整合優勢,能廣泛覆蓋從半導體、LED 到高階精密光學的多元應用:

1. 半導體與 LED 光電 (Semiconductor & LED Optoelectronics)

DMC的高指向性蒸鍍特性與低溫離子輔助能力,特別適用於化合物半導體、各類 LED 製程與微機電系統。

關鍵製程與應用

  • LED / Mini & Micro LED
    • 高反射結構:製作分佈式布拉格反射鏡 (DBR) 或高反射金屬鏡 (Ag, Al),顯著提升覆晶 (Flip-chip) 或垂直式 LED 的出光效率 (LEE)。
    • 透明導電膜(TCO):沉積高品質 ITO 薄膜,兼具高穿透率與低片電阻,優化電流擴散性能。
    • 電極與歐姆接觸:p/n 電極金屬沉積 (如 Ni/Au, Ti/Pt/Au, Cr/Pt/Au)。

2. 精密光學產業 (Precision Optics)

針對對光譜特性有嚴格要求的成像與投影元件,DMC 的光學監控系統能確保複雜膜堆的精準度。

  • 應用產品:單眼/數位相機鏡頭、顯微鏡/望遠鏡鏡片、投影機光機元件、雷射光學元件。
  • 常見鍍膜:寬頻抗反射膜 (BBAR)、高反射膜 (HR)、分光鏡 (Beamsplitter)、截止濾光片 (Cut-off Filter)。

3. 車載光學與感測 (Automotive Optics & LiDAR)

利用大永自製離子源 (IAD) 的低溫緻密成膜特性,通過車規級嚴苛的環境耐候測試 (高溫高濕、耐磨耗)。

  • 應用產品:車載鏡頭、抬頭顯示器 (HUD) 反射鏡、LiDAR (光達) 保護視窗、車燈光學透鏡。
  • 常見鍍膜:紅外線穿透/截止濾光片 (IR Pass/Cut)、高耐久抗反射膜、冷光鏡 (Cold Mirror)。

4. 消費性電子光學 (Consumer Electronics)

利用大尺寸腔體(1550/1800/2050)實現大規模量產,滿足手機與穿戴裝置的龐大產能需求。

  • 應用產品:車載鏡頭、抬頭顯示器 (HUD) 反射鏡、LiDAR (光達) 保護視窗、車燈光學透鏡。
  • 常見鍍膜:紅外線穿透/截止濾光片 (IR Pass/Cut)、高耐久抗反射膜、冷光鏡 (Cold Mirror)。

5. 生醫光電與感測 (Bio-medical & Sensing)

結合光學監控與離子源輔助,製作高訊噪比、高穩定性的光學濾光片。

  • 應用產品:臉部辨識感測器 (3D Sensing)、環境光感測器、內視鏡鏡頭、生醫檢測濾光片。
  • 常見鍍膜:窄波段濾光片 (Narrow Bandpass Filter)、二向色鏡 (Dichroic Mirror)。

6. 視光產業 (Eyewear)

針對樹脂與塑膠基板,DMC 的低溫離子輔助製程可避免基板變形,同時確保膜層硬度與附著力。

  • 應用產品:近視/遠視眼鏡片、太陽眼鏡、運動護目鏡 (雪鏡/潛水鏡)、安全防護眼鏡。
  • 常見鍍膜:抗藍光膜、水銀/彩衣鍍膜 (Mirror Coating)、抗反射增透膜。

7. 裝飾與功能性鍍膜 (Decorative & Functional)

利用大腔體的高裝載量,進行高效率的裝飾性金屬化製程,兼具金屬質感與電訊號穿透性。

  • 應用產品:精品包裝、化妝品容器、鐘錶零配件、3C 產品機殼。
  • 常見鍍膜:NCVM (不導電真空金屬化)、金屬質感鍍膜、漸層色鍍膜。