利用材料表面起伏等表面結構及形狀引起之反射率變化與波長相關特性
     此原理為使材料表面粗糙化，使反射光漫射模糊，而不會直接反射刺激眼睛，製作方法主要是利用酸蝕和研磨等方法，只要使表面光滑程度降低即可，製程簡單成本低廉，但很明顯的，雖然反射光被霧化了，但影像清晰度並沒有提高，反而還因表面的不平整而降低了，此法為較老舊的抗反射膜製程的方法，實在不符合我們現在的需要。

利用半導體層中之能帶間躍遷吸收
    (1) 利用半導體中干涉，實例有 Si/Mo , PbS/Al
    (2) 在半導體上製備抗反射膜，實例有 SiO/Ge/Al , SiNx/Si/Ag/Cr2O3/SuS
    (3) 通過半導體的表面結構，實例有 Black Si , Black Ge，但這些抗反射效果通常並非針對可見光區，而是著眼於一些人眼不能視之特殊波長光線，通常是作為濾光鏡等特殊設備使用。

利用光學薄膜中的薄膜干涉現象，達成抗反射效果
     此法為在基材上鍍上單層或多層的透明金屬或氧化物薄膜，由於光線通過不同介質會產生不同的現象，當不同薄膜層之反射光互相產生破壞性干涉時，反射光就會被抵銷，如此就可達成抗反射的效果。