電漿監控裝置

專利證書號數：I861840

名　　　　　稱：電漿監控裝置

[1]申請專利範圍

一種電漿監控裝置，包括：至少一第一靶座，具有第一靶材，且提供第一電漿；至少一第二靶座，具有第二靶材，且提供第二電漿；第一準直鏡組，對應於所述第一靶座設置，以偵測所述第一電漿的第一電漿光譜；第一流量控制器組，分別透過第一供氣管組與第二供氣管組提供氣體給所述第一靶座與所述第二靶座；以及電漿放射監控器，根據所述第一電漿的所述第一電漿光譜調整所述第一流量控制器組所提供的所述氣體的流量，其中，所述第一靶材與所述第二靶材相同，且準直鏡組的總組數小於靶座的總數量，其中，所述第一靶座對應於獨立設置的所述第一供氣管組，且所述第二靶座對應於獨立設置的所述第二供氣管組，其中，所述供氣管組的總組數等於所述靶座的所述總數量，所述供氣管組的所述總組數大於所述準直鏡組的所述總組數，且所述供氣管組的所述總組數大於所述流量控制器組的總組數。
如請求項1 所述的電漿監控裝置，其中所述準直鏡組的總組數等於1，且所述靶座的總數量大於或等於2。
如請求項1 所述的電漿監控裝置，其中所述流量控制器組的所述總組數小於所述靶座的所述總數量。
如請求項3 所述的電漿監控裝置，其中所述流量控制器組的總組數等於1，且所述靶座的總數量大於或等於2。
如請求項1 所述的電漿監控裝置，其中所述第一靶座的所述第一電漿的第一光強度實質上相同於所述第二靶座的所述第二電漿的第二光強度。
如請求項1 所述的電漿監控裝置，其中所述第一靶座的所述第一電漿的第一光強度與所述第二靶座的所述第二電漿的第二光強度的差異在10%內。
如請求項1 所述的電漿監控裝置，更包括：至少一第三靶座，具有第三靶材，且提供第三電漿；第二準直鏡組，對應於所述第三靶座設置，以偵測所述第三靶座的所述第三電漿的第三光強度；以及第二流量控制器組，透過第三供氣管組提供另一氣體給所述第三靶座，其中，所述第一靶材與所述第三靶材不同，且準直鏡組的總組數小於靶座的總數量。
如請求項7 所述的電漿監控裝置，其中所述準直鏡組的總組數等於2，且所述靶座的總數量大於或等於3。
如請求項7 所述的電漿監控裝置，其中流量控制器組的總組數小於所述靶座的總數量。
如請求項9 所述的電漿監控裝置，其中所述流量控制器組的總組數等於2，且所述靶座的總數量大於或等於3。