專 利 證 書 號 數：I766688

名　　　　　 稱：光學多層膜及其用途

[1]申請專利範圍

1. 一種光學多層膜，包括：一基材；一第一耦合層，設置於該基材上，包括：至少一第一介電材料層與至少一第二介電材料層，該第一介電材料層與該第二介電材料層互相推疊成多層結構，其中該第一介電材料層的材料包括二氧化鈦、五氧化二鉭、五氧化二鈮、氮化鋁或氮氧化鋁，且該該第二介電材料層的材料包括氟化鎂、二氧化矽或三氧化二鋁；一導電層，設置於該第一耦合層上；以及一第二耦合層，設置於該導電層上，其中該第一耦合層位於該基材與該導電層之間。
2. 如請求項1 所述的光學多層膜，其中該基材具有一第一表面以及與該第一表面相對的一第二表面，且該光學多層膜更包括：一抗反射膜，設置於該基材的該第一表面上，其中該第一耦合層、該導電層以及該第二耦合層設置於該基材的該第二表面上。
3. 如請求項1 所述的光學多層膜，其中該導電層的片電阻值為10Ω/□至250Ω/□。
4. 如請求項1 所述的光學多層膜，其中該導電層的片電阻值為10Ω/□至30Ω/□。。
5. 如請求項1 所述的光學多層膜，其中該導電層的厚度大於50 奈米且小於等於400 奈米。
6. 如請求項1 所述的光學多層膜，其中該光學多層膜在波長為400 奈米至700 奈米時的反射率為0.1%至5%。
7. 如請求項1 所述的光學多層膜，其中該光學多層膜在波長為400 奈米至700 奈米時的反射率為0.1%至1%。
8. 如請求項1 所述的光學多層膜，其中該基材的形式為非平面。
9. 如請求項8 所述的光學多層膜，其中該基材具有一第一表面以及與該第一表面相對的一第二表面，該基材的該第一表面為凸面，且該第二表面為凹面。
10. 如請求項1 所述的光學多層膜，其中該導電層的材料為透明導電材料。
11. 一種如請求項1 所述的光學多層膜的用途，其係用於抗反射、加熱除霧以及加熱除霜。
    

• 圖1 繪示為本發明第一實施例的光學多層膜的剖面示意圖。
• 圖2 為本發明第一實施例的光學多層膜的製作方法的流程圖。
• 圖3 繪示為真空鍍膜設備的上視示意圖。
• 圖4 繪示為本發明第二實施例的光學多層膜的剖面示意圖。
• 圖5A 繪示為本發明第三實施例的光學多層膜的剖面示意圖。
• 圖5B 為圖5A 的第三實施例的光學多層膜在不同波長時的反射率及穿透率。
• 圖6A 繪示為對照實施例的光學多層膜的剖面示意圖。
• 圖6B 為圖6A 的對照實施例的光學多層膜在不同波長時的反射率及穿透率。

【圖1】

【圖2】

【圖3】

【圖4】

【圖5A】

【圖5B】

【圖6A】

【圖6B】