大永真空設備股份有限公司創立於 1968 年，專注於真空鍍膜設備的研發、設計、製造與全球服務，致力於為精密光學、半導體及先進電子產業提供高效能鍍膜解決方案。

深耕超過半世紀，大永真空以 PVD（Physical Vapor Deposition）與 PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）核心技術為基礎，持續投入技術創新與產品研發。近年來，公司積極推動轉型升級，由傳統真空鍍膜設備製造商，發展為聚焦精密光學與半導體應用的高階設備供應商，協助客戶掌握下一世代光學與電子技術商機。

目前大永真空建構完整的四大技術平台：光學蒸鍍、光學濺鍍、晶圓級鍍膜及捲對捲鍍膜，可滿足從研發驗證到量產製造的多元需求。

大永真空擁有自主研發團隊、千級無塵光學實驗室及完整研發測試平台，持續開發高精度、高穩定性與高良率的鍍膜設備與製程技術，協助客戶縮短產品開發週期，加速技術驗證與量產導入，提升市場競爭力。

2024 年，大永真空正式取得 TSMC 供應商資格認證，展現公司在技術能力、品質管理與服務體系上的專業實力。憑藉超過 50 年的產業經驗與全球化服務能力，大永真空設備已穩定運行於亞洲、美洲及歐洲等市場，持續為全球高科技產業創造價值。
✓ TSMC 認證供應商 2024

展望未來，大永真空將持續聚焦 AI、AR/VR、車載光學、MicroLED、光通訊、矽光子、CPO 及先進封裝等高成長領域，深化核心技術研發，攜手全球客戶共同推動下一世代科技創新，朝向世界級精密光學與半導體鍍膜解決方案領導品牌邁進。

能力	簡單	價值	創新
軟硬體兼備的自主開發設備能力，與歐美先進鍍膜技術同步。	設備耐用、環境適應性高，價格合理並且操作容易。	協助膜層開發，創造產品價值，開創產業升級的技術合作夥伴。	緊密串接產學資源，提供突破性的鍍膜技術和解決方案。