• 離子輔助光學蒸鍍機

離子輔助光學蒸鍍機

型號 : DMC-IAD

光學薄膜廣泛應用在各種生活用品,藉由不同折射率材料的堆疊及設計,利用光學干涉現象使光產生各種效果,鍍出不同功能的光學多層膜。

抗反射膜可使手機的拍照功能更清晰、眼鏡上的重影減少; UV/IR截止濾光片能保護保護感測器與相關零組件的運作,提高影像穩定性並增加使用壽命,也可應用於屏下指紋解鎖。光學鍍膜可透過多層膜堆疊或是厚度增減,來達到不同的用途,因此可依需求設計不同功能的濾光片。

大永DMC-IAD系列光學設備,具有獨特的光學監控系統,可於腔體內量測廣波域光譜,計算真空中折射率,更易進行tooling值計算,快速進行膜層參數修正。並可利用導納軌跡的演算法,容易做到膜厚誤差補償,可有效選擇膜層切點,完成高品質薄膜。



DMC 800 IAD  DMC 1100 IAD 
DMC 135IAD 
DMC 1500 IAD 
適用基材
玻璃、高分子基材
沉積技術 熱阻舟蒸鍍、電子槍蒸鍍、離子源助鍍
鍍層材料
  • 氧化物:TiO2, Al2O3, SiO2, ZnO, Ta2O5, HfO2, ITO
  • 金屬膜:Cu, Ag, Au, Al, Ti, Cr, Pt, Pd
  • 氮化物:TiN, Si3N4
腔體尺寸 (mm) Ø800
Ø1100
Ø1350
Ø1500
迴轉機構
 行星式公自轉、傘架式公轉
極限真空 (Torr)
優於5 x 10-7
優於6 x 10-7
優於6 x 10-7
優於6 x 10-7
抽氣速率
從大氣抽至1 x 10-5  Torr ≦15分鐘
電子槍數量
2
石英監控系統
旋轉6點式
光學監控系統
反射/穿透式,350~1050 nm
加熱系統
最高250℃,150 (30分內到達)
操作介面
17吋觸控工業電腦
操作系統
IPC+PLC 自動、手動控制
電力需求 (3ø 380V )
80 kVA
80 kVA
80 kVA

80 kVA

冷卻水需求 
100 L/min
100 L/min
150 L/min
180 L/min
壓縮氣體需求
6~8 kg/cm²

  • IAD有效提高薄膜品質,增加光學鍍膜應用領域。
  • 可鍍材料多元,基材種類限制少。
  • 製程穩定性、再現性高。
  • 自動化鍍膜軟體,設定方便,可直接載入光學設計檔,並模擬完成光譜。
  • 完整的製程參數與歷史紀錄,便利於使用者讀取歷史資料進行分析與優化。
  • 雙語介面、圖像模式,易於操作。
  • 獨立安全迴路電源、多組急停開關設置,提升人員操作安全性。



抗反射膜、截止濾光片、帶通濾光片…等各式濾光片

   

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