離子輔助光學蒸鍍機
型號 :
DMC-IAD
光學薄膜廣泛應用在各種生活用品，藉由不同折射率材料的堆疊及設計，利用光學干涉現象使光產生各種效果，鍍出不同功能的光學多層膜。
抗反射膜可使手機的拍照功能更清晰、眼鏡上的重影減少； UV/IR截止濾光片能保護保護感測器與相關零組件的運作，提高影像穩定性並增加使用壽命，也可應用於屏下指紋解鎖。光學鍍膜可透過多層膜堆疊或是厚度增減，來達到不同的用途，因此可依需求設計不同功能的濾光片。
大永DMC-IAD系列光學設備，具有獨特的光學監控系統，可於腔體內量測廣波域光譜，計算真空中折射率，更易進行tooling值計算，快速進行膜層參數修正。並可利用導納軌跡的演算法，容易做到膜厚誤差補償，可有效選擇膜層切點，完成高品質薄膜。
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DMC 800 IAD |
DMC 1100 IAD |
DMC 1350 IAD |
DMC 1500 IAD |
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適用基材 |
玻璃、高分子基材 | |||
| 沉積技術 |
熱阻舟蒸鍍、電子槍蒸鍍、離子源助鍍 |
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| 鍍層材料 |
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| 腔體尺寸 (mm) |
Ø800 |
Ø1100 |
Ø1350 |
Ø1500 |
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迴轉機構 |
行星式公自轉、傘架式公轉 | |||
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極限真空 (Torr) |
優於5 x 10-7 |
優於6 x 10-7 |
優於6 x 10-7 |
優於6 x 10-7 |
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抽氣速率 |
從大氣抽至1 x 10-5 Torr ≦15分鐘 |
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電子槍數量 |
2 |
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石英監控系統 |
旋轉6點式 |
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光學監控系統 |
反射/穿透式,350~1050 nm |
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加熱系統 |
最高250℃，150℃ (30分內到達) |
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操作介面 |
17吋觸控工業電腦 |
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操作系統 |
IPC+PLC 自動、手動控制 |
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電力需求 (3ø 380V ) |
80 kVA |
80 kVA |
80 kVA |
80 kVA |
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冷卻水需求 |
100 L/min |
100 L/min |
150 L/min |
180 L/min |
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壓縮氣體需求 |
6~8 kg/cm² |
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- IAD有效提高薄膜品質，增加光學鍍膜應用領域。
- 可鍍材料多元，基材種類限制少。
- 製程穩定性、再現性高。
- 自動化鍍膜軟體，設定方便，可直接載入光學設計檔，並模擬完成光譜。
- 完整的製程參數與歷史紀錄，便利於使用者讀取歷史資料進行分析與優化。
- 雙語介面、圖像模式，易於操作。
- 獨立安全迴路電源、多組急停開關設置，提升人員操作安全性。
抗反射膜、截止濾光片、帶通濾光片…等各式濾光片
