濺鍍光學

大永真空除蒸鍍光學領域外，更開發出自有的活化反應濺鍍法設備，以此將濺鍍製程之特性導入光學鍍膜設備，透過分離濺鍍與反應性氣體間交互作用，可有效改善反應性濺鍍製程的缺點，除了可保有濺鍍製程之高薄膜品質與大面積均勻性等優點外，製程具有更高的穩定性及足以媲美於濺射靶材金屬的高沉積速率。