高功率脈衝磁控濺鍍(HiPIMS)

HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering)將是鍍膜技術的主流,它結合了目前市場上常見塗層技術和方法的所有優點。


HIPIMS是一種以高功率脈衝電源進行磁控濺鍍的技術,透過產生比傳統直流濺鍍模式要高上數十倍之瞬間脈衝電流,得到比直流濺鍍要高上百倍至萬倍的電子密度的高密度電漿,可在低基材溫度下進行無孔隙、緻密度高、結晶性佳的塗層沉積。在薄膜硬度、韌性展現優異性能,並且優異的沉積速率,提供最高的生產率。

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高功率脈衝磁控濺鍍機

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捲繞式磁控濺鍍機

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捲繞式紗線鍍膜機

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