高功率脈衝磁控濺鍍(HiPIMS)

HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering)將是鍍膜技術的主流，它結合了目前市場上常見塗層技術和方法的所有優點。

HIPIMS是一種以高功率脈衝電源進行磁控濺鍍的技術，透過產生比傳統直流濺鍍模式要高上數十倍之瞬間脈衝電流，得到比直流濺鍍要高上百倍至萬倍的電子密度的高密度電漿，可在低基材溫度下進行無孔隙、緻密度高、結晶性佳的塗層沉積。在薄膜硬度、韌性展現優異性能，並且優異的沉積速率，提供最高的生產率。