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捲繞式中空陰極鍍膜機

型號 : DMRC-HCD

特殊設計的濺鍍源、HiPIMS濺鍍技術或HCD (Hollow Cathode Deposition),產生極高的濺鍍速率。大永與知名大學進行產學合作,配合前端學術研究,為開發具抗菌、導電、除臭...等各種功能性效果,帶來革新生產技術、新應用,進而使生活更加便利。

設備規格

 適用基材

 紗線(≒150D)、織布、PET膜等

 積技術

 鍍源

 層材料

 氧化物TiO2、ZrO2、Al2O3、SiO2、ZnO、ITO、PZT
 金屬膜:Al、Ti、Zr、Cr、Mg、Cu、Ag、Pt、Pd、W
 氮化物TiN、ZrN、CrN
 化物:TiB2

 塗層顏色

 金黃、銀、玫瑰、紫、藍、灰、黑、透明等顏色

 室材質

 SUS304

 操作系統

 控式螢幕+PLC

 重量

 2.5

 體尺寸

 750(L) x 600(W) x 600(H)

 製程冰水輪尺寸

 Φ200*300mmL

 織布有效鍍膜高度

 200mm

 鍍電源

 功率脈衝磁控濺鍍(HiPIMS)

 鍍功率(kW)

 10kW

 極限真空(Torr)

 5 x 10-4 Torr

 張力系統可控速度

 1~100m/min

 需求電源

 3220V,50/60Hz,56kVA

  1.  小型化、精巧的設計及配置,同時達到高品質與快速的產出需求。
  2. 小張力的繞捲系統,使用交流伺服馬達,精準控制紗線的張力與繞捲速度。
  3. 專利申請繞線及導引設計,快速達到需求膜厚與高產出速率。
  4. 配備高功率脈衝電源(HiPIMS)系統或HCD (Hollow Cathode Deposition),使膜層達到高鍍率及良好耐候特性。
  5. 觸控工業電腦:可儲存多樣、完整的製程參數及歷史紀錄,便於使用者匯出歷史資料及分析。

捲繞式紗線鍍膜機可應用於 紗線/織布 功能性膜層沉積:可使其具有抗菌、導電、除臭...等效果。

   

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